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SPUTTERING-MICROWAVE-RF ION BEAM Sputtering and E-beam sSystems for R&D and Pilot Production. Static and Rotating Magnetron Sputter Sources for HV and UHV, Substrate Holders with Rotation, RF Bias, Heating and Cooling; Sputter Targets, Microwave, RF and DC Power Supplies, Microwave Components and Plasma Sources, RF Ion/Plasma Sources.